常温常压下三氯化硼11（B11Cl3）为无色发烟气体，可燃，有刺激性、酸性气味，遇水分解生成氯化氢和硼酸，并放出大量热量，在湿空气中因水解而生成烟雾，在醇中分解为盐酸和硼酸酯。三氯化硼11反应能力较强，能形成多种配位化合物，三氯化硼加热能和玻璃、陶瓷起反应，也能和许多有机物反应形成各种有机硼化合物。高纯三氯化硼11主要用于（硅）半导体器件制造工艺中的扩散掺杂，在高温下，经过分解生成硼杂质向硅中扩散，形成P型半导体，也可用于Al、MoSi2、TaSi2、TiSi2、WSi等材料的干法蚀刻。

产品指标

产品用途：

高纯三氯化硼11主要用于半导体器件和集成电路制造中扩散掺杂、离子注入、干法蚀刻等工艺。三氯化硼11也可用以制造高纯硼、有机合成用催化剂、硅酸盐分解时的 助熔剂，在合金精制中作为除氧剂、氮化物和碳化物的添加剂。

包装、贮存：

三氯化硼11充装于钢瓶中，包装规格为10L和47L，具体包装规格可根据用户要求定制更改。产品储存于阴凉、干燥、通风库房内，库房温度低于60℃。严禁暴晒，远离热源。包装必须密封，与碱类等危险品分开储存。